根据Kuai Technology的说法，6月29日，世界上最大的半导体团队负责人ASML已开始开发下一代高级HyperNA EUV光刻机器，以在未来十年为筹码行业做准备。 Jos Benschop说，ASML和他的独家光学合作伙伴Carl Zeiss正在研究一台EUV光刻机器，该机器可以在一个展览中打印出5 nm分辨率，可以满足2035年以上的流程需求。当前，ASML发送最先进的光刻机器，可以单一接触8 nm的分辨率。以前，我们不得不多次曝光较旧的光刻机器才能达到类似的分辨率。这不仅是低效率的，而且产量也有限。 Benschop在Zeiss进行了设计研究，目的是达到0.7或更多的数值开口（NA），并指出他们尚未建立HorarSpific Punch Inauption IOS。数值（NA）开口是衡量OPT能力的重要指标收集和聚焦光线的系统系统，也是确定电路模式是否可以在晶圆中细节投影的重要因素。 Na和较短的是光波长，打印分辨率越大。目前，标准的EUV光刻机器的NA为0.33，但最新一代NA EUV已增加到0.55。目前，ASML迁移到Na 0.7或Na Ultra Alta（Hyper Na）。 [本文的结尾]如果您需要重印，请务必向我们展示其来源：Kuai技术编辑：Chahui